碳氫真空清洗設(shè)備主要由五大系統(tǒng)組成,分別是清洗系統(tǒng)、蒸餾回收系統(tǒng)、輸送系統(tǒng)、消防與安全系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)。影響清洗品質(zhì)的主要是清洗系統(tǒng)和蒸餾回收系統(tǒng)。
上海浸泰環(huán)??萍加邢薰鞠蚬I(yè)制造領(lǐng)域提供的系統(tǒng)包括;碳氫清洗機和清潔度檢測制膜設(shè)備。廠家價格,品質(zhì)保障!惠及用戶,以用戶為中心使浸泰的產(chǎn)品保持極高的質(zhì)量水平,也使我們擁有不斷創(chuàng)新的能力。下面就碳氫真空清洗設(shè)備的常見問題做一些設(shè)備與工藝的分析。
1、蒸餾釜不沸騰
蒸餾釜一般有兩大功能,一是提供蒸汽到干燥槽,實現(xiàn)對產(chǎn)品氣相清洗及升溫;二是通過蒸汽冷凝回收,實現(xiàn)碳氫溶劑的再生重復(fù)利用,節(jié)能減排。
如果蒸餾釜蒸餾不沸騰,相當于蒸餾回收系統(tǒng)癱瘓,氣相清洗失效,溶劑也無法再生。
隨著清洗量的加大,清洗槽內(nèi)的碳氫逐步污染,就會出現(xiàn)產(chǎn)品清洗不干凈的現(xiàn)象。
2、蒸汽清洗及干燥的時間
蒸汽清洗時間越長越有利于提高產(chǎn)品的潔凈度;蒸汽時間太短,產(chǎn)品的直接加溫不夠,會影響產(chǎn)品的干燥效果。所以,蒸汽清洗時間對產(chǎn)品清洗效果來說是很關(guān)鍵的。
另外,干燥時間越長越有利于徹底干燥。而干燥效率的快慢取決于設(shè)備抽真空的能力和產(chǎn)品表面的溫度。
一般來說,碳氫真空清洗設(shè)備干燥時間都在120-280秒之間,根據(jù)產(chǎn)品的形狀及設(shè)備的能力而設(shè)定,如杜爾設(shè)備,60秒即可完成對普通立體狀產(chǎn)品的清洗干燥。
3、清洗系統(tǒng)的時間、溫度和真空度
清洗時間越長越有利于油污的溶解與分離,因此清洗時間的設(shè)定要考慮產(chǎn)品的油污輕重及生產(chǎn)效率。
溫度越高,碳氫溶劑的分子運動速度更快,其對油污溶解能力,對產(chǎn)品的滲透力更強。
由于碳氫溶劑為易燃液體,溫度的設(shè)定需要考慮使用的安全性。若使用的碳氫溶劑閃點較高,可在可控范圍內(nèi)適當提高清洗溫度,提高清洗品質(zhì)。
真空度的調(diào)整與設(shè)備的抽真空能力有關(guān)。一般配合超聲波使用,真空度越大,密閉的清洗空間內(nèi),泵抽氣能力越強,殘留空氣越少,會讓超聲波衰減變?nèi)酰瑥亩龠M超聲波能量傳遞,增大超聲的強度。
4、清洗系統(tǒng)的過濾單元
在碳氫真空清洗的過程中,一般每個清洗槽都有單獨的過濾單元,過濾泵帶動碳氫液體的循環(huán)和濾芯(包括濾袋、濾網(wǎng)等)的過濾,使清洗中的一些污垢,特別是一些不溶的顆粒物,吸附在濾芯的表面,從而延長槽內(nèi)碳氫的使用壽命。
隨著清洗次數(shù)的增多,槽內(nèi)碳氫的油污及顆粒物將越來越多,過濾單元的污染也會越來越大,因此濾芯需要定期更換。
長期不更換濾袋不僅會影響清洗品質(zhì),還會加重設(shè)備循環(huán)泵的負擔,增大其損壞的概率。
5、超聲波清洗能力
碳氫真空自動清洗設(shè)備通常是在敞開式的超聲波清洗的基礎(chǔ)上設(shè)計改進而成,超聲波的能力是清洗能力的核心。在選用設(shè)備時應(yīng)特別注意超聲波功率、頻率和震板布局(是底震還是側(cè)震等)。
與傳統(tǒng)的水基清洗劑對比,碳氫密度較小,同等的超聲波強度,采用碳氫清洗要比水基清洗的強度要弱得多。
因此使用碳氫清洗,必須考慮超聲波的清洗能力。如,我司的碳氫除蠟工藝,在普通的超聲波清洗下,除蠟的效率及效果都比不上脫氣的超聲波清洗。
6、清洗相關(guān)工藝的變化
1)前工序油污的變化
碳氫真空清洗設(shè)備在工藝不變情況下,清洗能力是變化不大的。
當前加工工序油污發(fā)生變化,而設(shè)備的清洗能力不達標時,通常會出現(xiàn)清洗不干凈,油污殘留的現(xiàn)象。
解決的方式通常有兩種,一是從前加工油污著手改善;二是通過調(diào)整設(shè)備工藝參數(shù),提高設(shè)備的清洗能力。
2)待清洗產(chǎn)品放置時間
待產(chǎn)品放置時間越長,油污的附著力也就越大,越不利于清洗干凈。因此,產(chǎn)品加工后應(yīng)當盡快清洗,計劃排產(chǎn)的管理制度尤為重要。
3)前工序帶來的水污染
通常待清洗產(chǎn)品具有工藝的多變性,有些產(chǎn)品加工可能是沖壓或拉伸工藝,有些是水性切削及磨光工藝,還有的是采用水洗+碳氫的復(fù)合工藝等。
當碳氫受到水污染時,產(chǎn)品清洗通常會出現(xiàn)“水印”,解決思路通常是清潔蒸餾再生系統(tǒng),清潔碳氫槽體,然后再做好預(yù)防水污染的措施。如,碳氫切水徹底后,再進入碳氫真空清洗設(shè)備進行清洗;
4)其它的變化
如前加工工藝、產(chǎn)品材質(zhì)、清洗環(huán)境(溫度、濕度)等工藝的變化,都可能影響碳氫真空清洗設(shè)備的清洗效果。
上述均為碳氫真空清洗設(shè)備相關(guān)的一些問題分析,僅供參考。
具體的碳氫清洗品質(zhì)問題,還要從多角度(人、機、料、法、環(huán))去分析和驗證,此文僅做一些從設(shè)備相關(guān)的角度來分析,希望上述分析問題的思路能為您起到拋磚引玉的效果。